Euvリソグラフィ用反射型マスクブランク、および、euvリソグラフィ用反射型マスク

  • Inventors:
  • Assignees: 旭硝子株式会社
  • Publication Date: July 09, 2014
  • Publication Number: JP-5541159-B2

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      Publication numberPublication dateAssigneeTitle
      JP-2002217097-AAugust 02, 2002Canon Inc, キヤノン株式会社反射型x線マスク構造体、x線露光装置、x線露光方法ならびに該反射型x線マスク構造体を用いたデバイス作製方法
      JP-2003338461-ANovember 28, 2003Canon Inc, キヤノン株式会社X-ray aligner and method for manufacturing device using the same
      JP-2004207593-AJuly 22, 2004Toppan Printing Co Ltd, 凸版印刷株式会社極限紫外線露光用マスク及びブランク並びにパターン転写方法
      JP-2006228766-AAugust 31, 2006Toppan Printing Co Ltd, 凸版印刷株式会社Mask for extreme ultraviolet ray exposure, mask blank, and exposure method
      JP-2007273514-AOctober 18, 2007Hoya Corp, Hoya株式会社反射型マスクブランクス及び反射型マスク並びに半導体装置の製造方法
      JP-2007335908-ADecember 27, 2007Hoya Corp, Hoya株式会社Reflective mask blanks and reflective mask
      JP-2009141223-AJune 25, 2009Renesas Technology Corp, Toshiba Corp, 株式会社ルネサステクノロジ, 株式会社東芝Reflective mask
      JP-2009212220-ASeptember 17, 2009Toshiba Corp, 株式会社東芝Reflection-type mask and method of making the same

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